FERA3

FERA3


Proveedor:

Tescan

Descripción:

La primera fuente de plasma Xe del mundo totalmente integrada FIB con SEM permite corrientes extremadamente altas de iones hasta 2 µA aumentando así la tasa de pulverización catódica más de 50 veces en comparación con fuente de Ga convencional.
Aplicación del FERA3 para el procesado de grandes volúmenes de materiales que Cuyo análisis consume mucho tiempo y se consideran imposibles hasta ahora.

Especificaciones técnicas:

Corriente de haz de Iones de 1 pA a 2 µA y resolución < 25 nm.

Descargar pdf Regresar